माइक्रो-नैनो प्रसंस्करण की पैटर्निंग प्रक्रिया को मुख्य रूप से दो तकनीकों में विभाजित किया गया है: पैटर्न ट्रांसफर और डायरेक्ट प्रोसेसिंग।लेजर बीम नक़्क़ाशी तकनीक में प्रत्यक्ष लेखन क्षमता है, जो पैटर्न हस्तांतरण की बहु-चरण प्रक्रिया से बचती है, और सीधे केंद्रित उच्च-ऊर्जा लेजर बीम को नियंत्रित करके सामग्री पर तीन आयामी माइक्रस्ट्रक्चर का उत्पादन करती है।इसमें उप-माइक्रोन फिल्म नक़्क़ाशी प्रसंस्करण सटीकता है और विभिन्न सामग्रियों के लिए उपयुक्त है।
फोटोलिथोग्राफ सब्सट्रेट की सतह पर फोटोलिथोग्राफी मास्क पर बने पैटर्न को स्थानांतरित करना है।कोई फर्क नहीं पड़ता कि किस प्रकार के माइक्रो डिवाइस को संसाधित किया जाता है, माइक्रो प्रोसेसिंग प्रक्रिया को फिल्म डिपोजिशन, फोटोलिथोग्राफी और एचिंग के तीन प्रक्रिया चरणों के एक या एक से अधिक चक्रों में तोड़ा जा सकता है।MEMS निर्माण प्रक्रिया में लिथोग्राफी सबसे आगे है, और इसके ग्राफिक्स रिज़ॉल्यूशन, ओवरले सटीकता और अन्य गुण सीधे बाद की प्रक्रियाओं की सफलता या विफलता को प्रभावित करते हैं।
माइक्रो-नैनो निर्माण प्रौद्योगिकी से तात्पर्य मिलिमीटर, माइक्रोमीटर और नैनोमीटर के आयामों के साथ भागों के डिजाइन, प्रसंस्करण, संयोजन, एकीकरण और अनुप्रयोग प्रौद्योगिकी से है, साथ ही इन भागों से बने घटकों या प्रणालियों से भी है।माइक्रो-नैनो निर्माण तकनीक, माइक्रो-सेंसर, माइक्रो-एक्ट्यूएटर्स, माइक्रो-स्ट्रक्चर और कार्यात्मक माइक्रो-नैनो सिस्टम के निर्माण का मूल साधन और महत्वपूर्ण आधार है।